真空實驗爐是使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，適用于材料學相關專業(yè)的教學和科研實驗，由溫控系統(tǒng)、管式爐、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)五部分構成，可在真空或氣氛環(huán)境下制備納米材料等。真空實驗爐的結構：
　　真空實驗爐分立式和臥式兩種，根據(jù)爐溫高低和客戶的工藝要求，采用石墨或鉬或鎢作發(fā)熱體及隔熱屏。可編程PID調節(jié)。爐膛可整體移出，便于維護。配備充氣裝置、可向爐內充入保護性氣體或工作氣體，充氣流量可調。配備內循環(huán)冷卻裝置，可加速爐內物料冷卻，縮短工作周期，利于提高產(chǎn)品質量和工作效率。
　　根據(jù)客戶需要，可升級配置：
　　1、可配內置式快冷系統(tǒng)；
　　2、可配PLC可編程控制器及圖形操作終端（觸摸屏）控制系統(tǒng)；
　　3、真空實驗爐采用特殊設計及選材的發(fā)熱體和隔熱屏，燒結溫度可達2100℃以上；
　　4、微負壓燒結系統(tǒng)：在燒結階段可設定一個微負壓力值，實現(xiàn)爐內恒壓燒結。
　　5、真空實驗爐可以根據(jù)真空度的要求加配油擴散泵，極限真空度可達6.7×10-4Pa。